從原料源頭把控產(chǎn)品品質(zhì)
良好的性能來自一絲不茍的執(zhí)著13020298877
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隱形眼鏡折射率測量儀是一種用于測量隱形眼鏡材料折射率的儀器,折射率是決定隱形眼鏡屈光度的關(guān)鍵參數(shù)之一。以下是隱形眼鏡折射率測量儀的工作原理:1、光源:通常使用單一波長的光源,如LED或激光二極管,以產(chǎn)生具有確定波長的光線。2、光線準(zhǔn)直:光源發(fā)出的光線通過一個準(zhǔn)直系統(tǒng)(如透鏡或孔徑...
一:隱形眼鏡折射率測量儀的用途:1、測量透明、半透明液體或固體的折射率和平均色散。儀器還可以接配恒溫器,能測定溫度為標(biāo)準(zhǔn)范圍內(nèi)的折射率,并測出糖溶液內(nèi)含糖量濃度的百分?jǐn)?shù)。2、液體生產(chǎn)線工藝中利用折射率測量儀在線監(jiān)控系統(tǒng)可以對整個工藝過程進(jìn)行實時檢測與控制,全面提高生產(chǎn)過程的工藝重演性和質(zhì)量的穩(wěn)定性,折射率測量儀*改變了長期以來靠人工操作經(jīng)驗、人工記錄、手工控制的粗放式生產(chǎn)管理方式,保證了工藝過程嚴(yán)格按照工藝方案執(zhí)行。3、進(jìn)而保證產(chǎn)品質(zhì)量達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)水平,同時準(zhǔn)確的控制可以防止水、...
1、設(shè)備工作場地電壓如果不穩(wěn),導(dǎo)致電流過大或過小,常期在此條件下工作會導(dǎo)致壓縮機(jī)損壞。2、臺式低溫試驗箱一起應(yīng)該安置在通風(fēng)干燥處后背及兩側(cè)離開障礙物300MM距離。3、使用前低溫試驗箱內(nèi)應(yīng)加入液體介質(zhì),且加入的液體介質(zhì)頁面不能低于工作臺板20mm。4、在試驗過程中頻繁啟動壓縮機(jī),壓縮機(jī)啟動的間隔時間為15分鐘。5、臺式低溫試驗箱使用完畢后,所有開關(guān)置關(guān)機(jī)狀態(tài),方可拔下電源插頭。6、在設(shè)備長時間不使用的時候應(yīng)將設(shè)備放置在盡量無塵的空間。
1、測量范圍:0-1000微米2、測量分辨率和重復(fù)性:1微米3、測量精度:±2微米(±1微米加上±1微米四舍五入)4、探針測力:可調(diào)整,出廠設(shè)置為約0.5gm5、標(biāo)準(zhǔn)測座:直徑12.7mm,曲率半徑7.2mm或6、球形測座(選配):8.00,8.73,或9.00鋼球,轉(zhuǎn)動角度4~±24°7、顯示:3.5位0.75吋液晶屏,每秒刷新3次8、調(diào)零:旋鈕調(diào)整約±15微米9、測頭:2.3mm直徑頂部平整拋光10、電...
一:隱形眼鏡顯微鏡的日常必須做足這些維護(hù)和保養(yǎng):1、使用時要嚴(yán)格按步驟操作,熟悉顯微鏡各部件性能,掌握粗、細(xì)調(diào)節(jié)鈕的轉(zhuǎn)動方向與鏡筒升降關(guān)系。轉(zhuǎn)動粗調(diào)節(jié)鈕向下時,眼睛必須注視物鏡頭。2、搬動顯微鏡時,要一手握鏡臂,一手扶鏡座,兩上臂緊靠胸壁。切勿一手斜提,前后擺動,以防鏡頭或其他零件跌落。3、觀察帶有液體的臨時標(biāo)本時要加蓋片,不能使用傾斜關(guān)節(jié),以免液體污染鏡頭和顯微鏡。4、隱形眼鏡顯微鏡觀察標(biāo)本時,顯微鏡離實驗臺邊緣應(yīng)保持一定距離(5cm),以免顯微鏡翻倒落地。鏡柱與鏡臂間的傾...
1、一臺儀器兼顧正視測量和側(cè)視測量。2、XYZ三軸可快速移動,Z軸可微調(diào)。3、高清攝像頭和光路提供高質(zhì)量的影像。4、功能強(qiáng)大的軟件提供各種測量功能和導(dǎo)出功能。5、整個測量過程都在恒溫水槽內(nèi)進(jìn)行,*模擬人眼環(huán)境。6、提供獨立控制的四個方向照明模式:前照明、背照明、側(cè)照明和斜照明。7、可觀測:鏡片表面質(zhì)量、缺陷、刀痕,邊緣毛刺等。8、可測量:鏡片直徑,外輪廓,襻的直徑、長度和角度等。9、可測量ISO11979-3或YY0290.3規(guī)定的物理性能:軸向位移、光學(xué)偏心、光學(xué)傾角(可測...
1、自由夾具可以測量鏡片的任意位置。2、自定心夾具可以方便測量圓形鏡片,切割過的鏡片或安裝在鏡框中的鏡片。3、鏡片散射光測試儀內(nèi)置650nm窄帶濾光片以減小外界光線的干擾。4、大面積傳感器配套高精度AD轉(zhuǎn)換確保測量失真極小。5、光圈轉(zhuǎn)換采用一鍵式控制,尋跡擺動采用高精度電動滑臺控制。6、鏡片散射光測試儀*符合EN167-2001(章節(jié)4.2.2)和AS/NZS1337-1:2010(附錄I)描述的技術(shù)要求。
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